| 세션명 | 기능성 고분자 |
|---|---|
| 발표장 | 제5회장 (205-206) |
| 논문코드 | 1L5-4 |
| 발표일 | 2018-10-11 |
| 발표시간 | 15:00-15:30 |
| 논문제목 | 콘포말 위상 마스크 기반 대면적 3차원 나노구조소재 제작 및 응용 |
| 발표자 | 박준용 |
| 발표자 소속 | 금오공과대학교 |
| 저자 | 박준용† |
| 소속 | 금오공과대학교 |
| 논문초록 | 2000년대 이후 전통적인 포토리소그래피에 의존하던 단순 적층식 공정에서 벗어나, 복잡한 3차원 미세구조를 제작하는데 최적화된 신개념의 3차원 나노패터닝 기술들이 다양하게 제안되었다. 이에 따라, 나노/마이크로미터 수준에서 높은 구조적 주기성 및 대칭성을 갖는 3차원 미세구조물을 비교적 손 쉽게 제작할 수 있게 되었고, 독특한 광학적/기계적/전기적 물성을 갖는 신소재들을 실험적으로 구현하고 탐구할 수 있게 되었다. 본 발표에서는 생산성, 재현성, 결함제어 등의 측면에서 보다 양산형에 가까운 형태로 진화한 근접장 나노패터닝(proximity-field nanopatterning, PnP) 기술의 원리 및 현황에 대해 집중적으로 소개하고자 한다. 특히, 기술의 핵심 요소라 할 수 있는 콘포말 위상 마스크(conformal phase mask)를 광학적/소재적으로 설계하는 방안에 대해 논의하고, 이를 바탕으로 제작된 인치급 3차원 나노구조소재를 활용한 고성능 센서, 열전 소자 등의 최신 응용 사례를 소개하고자 한다. |
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